全新方法能“看清”微芯片設計 | 來(lái)源:科技日報 訪(fǎng)問(wèn):2426 時(shí)間:2017-03-17 | 科技日報北京3月15日電 (記者張夢(mèng)然)英國《自然》雜志14日發(fā)表的一篇納米科學(xué)論文,展示了“詳觀(guān)”微芯片的全新方法——一種可生成高分辨率集成電路(計算機芯片)三維圖像的技術(shù),而在試驗中,研究人員事先并不知道所涉及的集成電路的設計。該成果將為醫療和航空領(lǐng)域的關(guān)鍵芯片生產(chǎn)帶來(lái)革新。
現代納米電子學(xué)發(fā)展至今已無(wú)法再以無(wú)損方式成像整個(gè)集成電路。歷經(jīng)50年,集成電路也已從上世紀60年代的每個(gè)芯片上僅幾十個(gè)器件,發(fā)展到現在的每個(gè)芯片上可包含約10億個(gè)器件。這些芯片的構造體積都很小,三維特征普遍復雜,這意味著(zhù)一旦設計和制造流程之間缺少反饋,就會(huì )嚴重妨礙生產(chǎn)、出貨和使用期間的質(zhì)量控制。
此次,瑞士保羅謝爾研究所科學(xué)家米可·霍勒及其同事,使用疊層衍射X射線(xiàn)計算機斷層掃描成像技術(shù)(PXCT),生成了一個(gè)事先已知其設計的探測器讀出芯片的圖像。研究團隊表明,通過(guò)這種方式生成的三維圖像與芯片的實(shí)際設計相符。
接下來(lái),在對該技術(shù)進(jìn)行驗證后,研究團隊將對一個(gè)商用處理器芯片進(jìn)行成像操作。這一次團隊在使用疊層衍射X射線(xiàn)計算機斷層掃描成像技術(shù)之前,對該芯片的設計信息所知十分有限,但是由于新技術(shù)的分辨率高,他們仍然能夠觀(guān)測到最細微的電路結構。
論文作者表示,該技術(shù)將能對醫療保健及航空等領(lǐng)域關(guān)鍵應用的芯片提供極大幫助,包括優(yōu)化芯片的生產(chǎn)流程、識別其故障機制并最后進(jìn)行驗證。
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